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UHV磁控溅射源
浏览器自带分享功能也很好用哦~UHV磁控溅射源是高质量的磁控溅射源，用于超高真空应用的圆形磁控管，可以单独提供，也可以集成到定制的真空系统中。这些圆形磁控溅射源与所有 UHV 系统兼容。
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主要特点：
可烘烤至 250°C（无需移除磁铁）
高达 40% 的出色靶材利用率
用于磁性材料的标准和强度磁体
平衡或不平衡磁体配置的选项
简单的卡口夹，便于直接安装目标
包括手动或气动控制快门之间的选择
可用的溅射靶尺寸：1 英寸、2 英寸和 3 英寸
用户友好的设计，带有易于更换的磁铁
可定制的真空长度
兼容 DC、RF、脉冲直流（单极或双极）和 HiPIMS 电源
规格
| 恒星源 | 1.0″ | 2.0″ | 3.0″ |
| 安装法兰 （CF （O.D.） | 4.5 英寸 | 6.0 英寸 | 6.0 英寸 |
| 114 毫米 | 152 毫米 | 152 毫米 | |
| NW63CF | NW100CF | NW100CF | |
| 兼容 UHV | 是的，可在高达 250°C 的温度下烘烤（无需移除磁铁） | ||
| 真空长度 | 200 毫米或 300 毫米 – 可根据要求提供特殊长度 | ||
| 源头的真空直径 | 45 毫米 | 72 毫米 | 93 毫米 |
| 目标大小 | 1.0 英寸（25 毫米） | 2.0 英寸（50 毫米） | 3.0 英寸（75 毫米） |
| 目标物厚度（使用标准磁铁的非磁性目标物） | 更大 3 毫米 | 更大 3 毫米 | 更大 3 毫米 |
| 目标物厚度（带有强磁铁的非磁性目标物） | 不适用 | 更大 7 毫米 | 更大 7 毫米 |
| 目标物厚度（带有强磁铁的磁性目标物） | 不可用 – | 更大 1 毫米 | 更大 2 毫米 |
| 0.4mm，带标准 | |||
| 磁性元件 | |||
| 磁铁 | 对于磁性或非磁性材料，平衡或不平衡，用户可以轻松 | ||
| 更换 | |||
| 电源 | 直流、射频、脉冲直流（单极或双极）、HiPIMS | ||
| 快门 | 一体式手动或可选气动操作 | ||
| 冷却 | 更小水流量为 1 I/min | ||
UHV磁控溅射源
UHV磁控溅射源是高质量的磁控溅射源，用于超高真空应用的圆形磁控管，可以单独提供，也可以集成到定制的真空系统中。这些圆形磁控溅射源与所有 UHV 系统兼容。
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包括手动或气动控制快门之间的选择
可用的溅射靶尺寸：1 英寸、2 英寸和 3 英寸
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兼容 DC、RF、脉冲直流（单极或双极）和 HiPIMS 电源
规格
| 恒星源 | 1.0″ | 2.0″ | 3.0″ |
| 安装法兰 （CF （O.D.） | 4.5 英寸 | 6.0 英寸 | 6.0 英寸 |
| 114 毫米 | 152 毫米 | 152 毫米 | |
| NW63CF | NW100CF | NW100CF | |
| 兼容 UHV | 是的，可在高达 250°C 的温度下烘烤（无需移除磁铁） | ||
| 真空长度 | 200 毫米或 300 毫米 – 可根据要求提供特殊长度 | ||
| 源头的真空直径 | 45 毫米 | 72 毫米 | 93 毫米 |
| 目标大小 | 1.0 英寸（25 毫米） | 2.0 英寸（50 毫米） | 3.0 英寸（75 毫米） |
| 目标物厚度（使用标准磁铁的非磁性目标物） | 更大 3 毫米 | 更大 3 毫米 | 更大 3 毫米 |
| 目标物厚度（带有强磁铁的非磁性目标物） | 不适用 | 更大 7 毫米 | 更大 7 毫米 |
| 目标物厚度（带有强磁铁的磁性目标物） | 不可用 – | 更大 1 毫米 | 更大 2 毫米 |
| 0.4mm，带标准 | |||
| 磁性元件 | |||
| 磁铁 | 对于磁性或非磁性材料，平衡或不平衡，用户可以轻松 | ||
| 更换 | |||
| 电源 | 直流、射频、脉冲直流（单极或双极）、HiPIMS | ||
| 快门 | 一体式手动或可选气动操作 | ||
| 冷却 | 更小水流量为 1 I/min | ||
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