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静电吸盘
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静电卡盘是一种能够通过静电力夹紧晶圆或单独芯片的装置。它操作简便、力度可调,特别适合研发机构处理非标准尺寸样品,尤其是在需要苛刻切割、腐蚀性液体/蒸汽处理等特殊工艺中,提供了极大的工艺灵活性。
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静电卡盘能够通过静电力将多个芯片以及晶片的一部分夹紧到晶片吸盘上。这种设备对于研发机构非常有用,因为并非总是可以处理完整的晶圆。 通过电静力夹持芯片,可以在HF蒸汽释放之前执行 MEMS 晶圆的

严格切割工艺。 该设备对于研发机构来说非常有用,因为研发机构并不总是能够处理完整的晶圆。芯片的静电夹紧允许在氢氟酸蒸汽释放之前对MEMS晶片进行苛刻的切割过程。通过修改经典的制造顺序,可以在轻腐

蚀性液体下刻蚀出MEMS器件。通过修改传统的制造顺序,可以生产出具有极其柔软悬浮结构的 MEMS器件。 电静力卡盘的使用非常简单。 将芯片放置在晶圆支架上,并通过控制箱上的开关打开电力,并且电静力的

大小可以进行调整。


优点:

  • 操作简单:将芯片放置在晶片架/吸盘上,通过控制器箱上的开关即可开启静电力。

  • 可调节性:静电力大小可调,以适应不同尺寸或材质的芯片,避免损坏脆弱的MEMS结构。

  • 适用环境:特别适用于需要避免机械夹具划伤或需要真空兼容的场合。

应用领域:

1. 半导体研发机构

  • 处理碎片化晶圆、单颗芯片验证

  • 新材料、新工艺的实验性夹持

  • 失效分析与逆向工程中的样品固定

2. MEMS微机电系统制造

  • 苛刻切割过程中的芯片固定

  • 湿法刻蚀、干法刻蚀前的夹持

  • 释放工艺前的临时键合替代方案

3. 化合物半导体与光电器件

  • 脆性材料(如氮化镓、砷化镓、蓝宝石)的无损夹持

  • 激光划片、裂片过程中的固定

  • 单颗器件测试与封装前处理

4. 高校实验室与科研院所

  • 微纳加工教学演示

  • 学生实验中的样品夹持

  • 跨学科研究中的临时固定需求

5. 特殊环境工艺

  • 真空镀膜(如溅射、蒸发)中的基片固定

  • 腐蚀性气体/液体环境下的刻蚀与清洗

  • 高温或低温工艺中的夹持

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项目参数/描述
夹持方式静电吸附
适用样品完整晶圆 / 切割芯片 / 晶片碎片
静电力控制0~100% 可调,旋钮/开关控制
控制器箱单独控制单元,带电源开关与调节旋钮
吸盘材质耐化学腐蚀陶瓷/金属基材(可选涂层)
工作环境真空 / 大气 / 腐蚀性气氛
定制服务支持吸盘尺寸、电极布局定制


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静电卡盘能够通过静电力将多个芯片以及晶片的一部分夹紧到晶片吸盘上。这种设备对于研发机构非常有用,因为并非总是可以处理完整的晶圆。 通过电静力夹持芯片,可以在HF蒸汽释放之前执行 MEMS 晶圆的

严格切割工艺。 该设备对于研发机构来说非常有用,因为研发机构并不总是能够处理完整的晶圆。芯片的静电夹紧允许在氢氟酸蒸汽释放之前对MEMS晶片进行苛刻的切割过程。通过修改经典的制造顺序,可以在轻腐

蚀性液体下刻蚀出MEMS器件。通过修改传统的制造顺序,可以生产出具有极其柔软悬浮结构的 MEMS器件。 电静力卡盘的使用非常简单。 将芯片放置在晶圆支架上,并通过控制箱上的开关打开电力,并且电静力的

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优点:

  • 操作简单:将芯片放置在晶片架/吸盘上,通过控制器箱上的开关即可开启静电力。

  • 可调节性:静电力大小可调,以适应不同尺寸或材质的芯片,避免损坏脆弱的MEMS结构。

  • 适用环境:特别适用于需要避免机械夹具划伤或需要真空兼容的场合。

应用领域:

1. 半导体研发机构

  • 处理碎片化晶圆、单颗芯片验证

  • 新材料、新工艺的实验性夹持

  • 失效分析与逆向工程中的样品固定

2. MEMS微机电系统制造

  • 苛刻切割过程中的芯片固定

  • 湿法刻蚀、干法刻蚀前的夹持

  • 释放工艺前的临时键合替代方案

3. 化合物半导体与光电器件

  • 脆性材料(如氮化镓、砷化镓、蓝宝石)的无损夹持

  • 激光划片、裂片过程中的固定

  • 单颗器件测试与封装前处理

4. 高校实验室与科研院所

  • 微纳加工教学演示

  • 学生实验中的样品夹持

  • 跨学科研究中的临时固定需求

5. 特殊环境工艺

  • 真空镀膜(如溅射、蒸发)中的基片固定

  • 腐蚀性气体/液体环境下的刻蚀与清洗

  • 高温或低温工艺中的夹持

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夹持方式静电吸附
适用样品完整晶圆 / 切割芯片 / 晶片碎片
静电力控制0~100% 可调,旋钮/开关控制
控制器箱单独控制单元,带电源开关与调节旋钮
吸盘材质耐化学腐蚀陶瓷/金属基材(可选涂层)
工作环境真空 / 大气 / 腐蚀性气氛
定制服务支持吸盘尺寸、电极布局定制


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