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电化学开尔文探针测量 CPD(接触电位差)值并评估与电解质接触的电化学样品的功函数。 功函数的测量在半导体物理学中特别有用,因为它们在被检查的材料中提供了费米能级的位置。 当电化学开尔文探针与光源耦合时,当干或湿界面被照亮时,可测量
样品的表面光电
压 (SPV)。 电化学 Kelvin 探针配有专门的电化学比色皿。在那里,样品漂浮在电解质上。开尔文探针顶端接近样品的暴露顶部。这样,样品顶部没有会影响测得的 CPD 的电解质层。尽管如此,样品的底部仍与电解质接触。 光线可以照亮样
品的顶面或底部
样品-电解质界面。 样品-电解质界面上可能发生的化学反应会影响 CPD 的测量值。
Kelvin 探针模块
电化学开尔文探针套件包括:
控制器单元,
带探针顶端的 Kelvin Probe 仪器,
电化学比色皿 /
法拉第笼
电化学 Kelvin 探针仪器配备:
实验后用于停放探针顶端的保护槽,
激光指示器直接指示区域,
当仪器被法拉第笼覆盖时帮助处理样品的光源,
激光屏障,用于精确检测探针顶端与样品的距离,
Golden 探针顶端,
电化学比色皿样品架,
电化学比色皿,样品放在上面。
电化学比色皿,电化学开尔文探针的关键元件是电化学比色皿套件,其中样品直接放置在比色皿的顶部。
规格
重量: 15 kg,
尺寸:40x40x45 厘米,
PC 连接:USB 2.0、
电源:230 V,50 Hz 或 115 V,60 Hz,
测量技术:2 通道锁相放大器,
激光屏障可自动检测基材并防止针尖进入样品,
辅助传感器:湿度、温度、
小灯 ,
用于表面指示的检查点的激光指示器,
样品架:
– 自由形状的固态,带顶部触点支架,
– 底部触点支架,
– 电化学支架,
法拉第笼:标准/气密,带惰性气体流动系统,
测量单位:
偏置电压范围:-5 ÷ 5 V,
电压测量分辨率:0.15 mV,
电流范围:300 nA、30 nA、3 nA、300 pA、
探头顶端:
探针顶端类型:Au 网孔,直径 2.5 mm,
垂直轴上的针尖定位分辨率:20 μm,
自动共振频率扫描 /
可调振荡幅度 /
自动去除顶端的寄生电流,
光源的部分透明度,
典型 CPD 测量距离:0.2 – 1 mm,
XY 工作台:
电动,通过软件控制,
尺寸:50 x 50 mm,
移动范围:50 x 50 mm,
电化学比色皿
比色皿类型:标准/底部光学元件、
电极类型:Ag/AgCl 或其他,
电解液容器材质:PTFE,
样品基材:带孔或其他的 Kapton 绝缘箔,
底部光学比色皿
光纤:液体波导,
镜面:紫外线增强或定制,
光学窗口:熔融石英。
优势
| 需求 | EKP优势 |
|---|---|
| 电化学环境测量 | 样品漂浮在电解质上,顶部无电解质层 |
| 高精度CPD | 0.15 mV分辨率 |
| 界面研究 | 样品-电解质界面化学反应影响 |
| 双照明模式 | 顶部/底部照明,干/湿界面 |
| 安全保护 | 激光屏障防止针尖碰撞 |
| 自动优化 | 自动共振扫描、寄生电流去除 |
电化学开尔文探针以电化学环境CPD测量、0.15 mV高分辨率、双照明模式、精密探针控制为优势,为半导体物理学、光电化学、腐蚀科学、传感器研究等领域提供强大的功函数和表面光电压研究平台。通过独特
的电化学比色皿设计,EKP使研究样品-电解质界面的电荷转移和化学反应成为可能。
电化学开尔文探针测量 CPD(接触电位差)值并评估与电解质接触的电化学样品的功函数。 功函数的测量在半导体物理学中特别有用,因为它们在被检查的材料中提供了费米能级的位置。 当电化学开尔文探针与光源耦合时,当干或湿界面被照亮时,可测量
样品的表面光电
压 (SPV)。 电化学 Kelvin 探针配有专门的电化学比色皿。在那里,样品漂浮在电解质上。开尔文探针顶端接近样品的暴露顶部。这样,样品顶部没有会影响测得的 CPD 的电解质层。尽管如此,样品的底部仍与电解质接触。 光线可以照亮样
品的顶面或底部
样品-电解质界面。 样品-电解质界面上可能发生的化学反应会影响 CPD 的测量值。
Kelvin 探针模块
电化学开尔文探针套件包括:
控制器单元,
带探针顶端的 Kelvin Probe 仪器,
电化学比色皿 /
法拉第笼
电化学 Kelvin 探针仪器配备:
实验后用于停放探针顶端的保护槽,
激光指示器直接指示区域,
当仪器被法拉第笼覆盖时帮助处理样品的光源,
激光屏障,用于精确检测探针顶端与样品的距离,
Golden 探针顶端,
电化学比色皿样品架,
电化学比色皿,样品放在上面。
电化学比色皿,电化学开尔文探针的关键元件是电化学比色皿套件,其中样品直接放置在比色皿的顶部。
规格
重量: 15 kg,
尺寸:40x40x45 厘米,
PC 连接:USB 2.0、
电源:230 V,50 Hz 或 115 V,60 Hz,
测量技术:2 通道锁相放大器,
激光屏障可自动检测基材并防止针尖进入样品,
辅助传感器:湿度、温度、
小灯 ,
用于表面指示的检查点的激光指示器,
样品架:
– 自由形状的固态,带顶部触点支架,
– 底部触点支架,
– 电化学支架,
法拉第笼:标准/气密,带惰性气体流动系统,
测量单位:
偏置电压范围:-5 ÷ 5 V,
电压测量分辨率:0.15 mV,
电流范围:300 nA、30 nA、3 nA、300 pA、
探头顶端:
探针顶端类型:Au 网孔,直径 2.5 mm,
垂直轴上的针尖定位分辨率:20 μm,
自动共振频率扫描 /
可调振荡幅度 /
自动去除顶端的寄生电流,
光源的部分透明度,
典型 CPD 测量距离:0.2 – 1 mm,
XY 工作台:
电动,通过软件控制,
尺寸:50 x 50 mm,
移动范围:50 x 50 mm,
电化学比色皿
比色皿类型:标准/底部光学元件、
电极类型:Ag/AgCl 或其他,
电解液容器材质:PTFE,
样品基材:带孔或其他的 Kapton 绝缘箔,
底部光学比色皿
光纤:液体波导,
镜面:紫外线增强或定制,
光学窗口:熔融石英。
优势
| 需求 | EKP优势 |
|---|---|
| 电化学环境测量 | 样品漂浮在电解质上,顶部无电解质层 |
| 高精度CPD | 0.15 mV分辨率 |
| 界面研究 | 样品-电解质界面化学反应影响 |
| 双照明模式 | 顶部/底部照明,干/湿界面 |
| 安全保护 | 激光屏障防止针尖碰撞 |
| 自动优化 | 自动共振扫描、寄生电流去除 |
电化学开尔文探针以电化学环境CPD测量、0.15 mV高分辨率、双照明模式、精密探针控制为优势,为半导体物理学、光电化学、腐蚀科学、传感器研究等领域提供强大的功函数和表面光电压研究平台。通过独特
的电化学比色皿设计,EKP使研究样品-电解质界面的电荷转移和化学反应成为可能。
