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电化学开尔文探针
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电化学开尔文探针(Electrochemical Kelvin Probe,EKP)是一种专门用于测量接触电位差(CPD)和功函数的科学仪器,特别适用于与电解质接触的电化学样品研究。通过非接触振动电容方法,EKP可精确测量样品表面与参考探针之间的CPD,从而推导出样品的功函数和费米能级位置。
当与光源耦合时,EKP可测量表面光电压(SPV)——光照下样品表面的电位变化,无论是干界面还是湿界面。系统配备适用电化学比色皿,样品漂浮在电解质上,探针顶端接近样品顶部(无电解质层),底部与电解质接触,可研究样品-电解质界面的化学反应对CPD的影响。
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电化学开尔文探针测量 CPD(接触电位差)值并评估与电解质接触的电化学样品的功函数。 功函数的测量在半导体物理学中特别有用,因为它们在被检查的材料中提供了费米能级的位置。 当电化学开尔文探针与光源耦合时,当干或湿界面被照亮时,可测量
样品的表面光电

压 (SPV)。 电化学 Kelvin 探针配有专门的电化学比色皿。在那里,样品漂浮在电解质上。开尔文探针顶端接近样品的暴露顶部。这样,样品顶部没有会影响测得的 CPD 的电解质层。尽管如此,样品的底部仍与电解质接触。 光线可以照亮样
品的顶面或底部

样品-电解质界面。 样品-电解质界面上可能发生的化学反应会影响 CPD 的测量值。

Kelvin 探针模块

电化学开尔文探针套件包括:

  • 控制器单元,

  • 带探针顶端的 Kelvin Probe 仪器,

  • 电化学比色皿 /

  • 法拉第笼

电化学 Kelvin 探针仪器配备:

  • 实验后用于停放探针顶端的保护槽,

  • 激光指示器直接指示区域,

  • 当仪器被法拉第笼覆盖时帮助处理样品的光源,

  • 激光屏障,用于精确检测探针顶端与样品的距离,

  • Golden 探针顶端,

  • 电化学比色皿样品架,

  • 电化学比色皿,样品放在上面。

电化学比色皿,电化学开尔文探针的关键元件是电化学比色皿套件,其中样品直接放置在比色皿的顶部。

规格

  • 重量: 15 kg,

  • 尺寸:40x40x45 厘米,

  • PC 连接:USB 2.0、

  • 电源:230 V,50 Hz 或      115 V,60 Hz,

  • 测量技术:2 通道锁相放大器,

  • 激光屏障可自动检测基材并防止针尖进入样品,

  • 辅助传感器:湿度、温度、

  • 小灯 ,

  • 用于表面指示的检查点的激光指示器,

  • 样品架:

     – 自由形状的固态,带顶部触点支架,

     – 底部触点支架,

     – 电化学支架,

  • 法拉第笼:标准/气密,带惰性气体流动系统,

  • 测量单位:

偏置电压范围:-5 ÷ 5 V,

电压测量分辨率:0.15 mV,

电流范围:300 nA、30 nA、3      nA、300 pA、

  • 探头顶端:

探针顶端类型:Au 网孔,直径 2.5 mm,

垂直轴上的针尖定位分辨率:20 μm,

自动共振频率扫描 /

可调振荡幅度 /

自动去除顶端的寄生电流,

光源的部分透明度,

典型 CPD 测量距离:0.2 – 1 mm,

  • XY 工作台:

电动,通过软件控制,

尺寸:50 x 50 mm,

移动范围:50 x 50 mm,

  • 电化学比色皿

  • 比色皿类型:标准/底部光学元件、

  • 电极类型:Ag/AgCl 或其他,

  • 电解液容器材质:PTFE,

  • 样品基材:带孔或其他的 Kapton 绝缘箔,

  • 底部光学比色皿

  • 光纤:液体波导,

  • 镜面:紫外线增强或定制,

  • 光学窗口:熔融石英。

优势

需求EKP优势
电化学环境测量样品漂浮在电解质上,顶部无电解质层
高精度CPD0.15 mV分辨率
界面研究样品-电解质界面化学反应影响
双照明模式顶部/底部照明,干/湿界面
安全保护激光屏障防止针尖碰撞
自动优化自动共振扫描、寄生电流去除

电化学开尔文探针以电化学环境CPD测量、0.15 mV高分辨率、双照明模式、精密探针控制为优势,为半导体物理学、光电化学、腐蚀科学、传感器研究等领域提供强大的功函数和表面光电压研究平台。通过独特

的电化学比色皿设计,EKP使研究样品-电解质界面的电荷转移和化学反应成为可能。




电化学开尔文探针
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电化学开尔文探针(Electrochemical Kelvin Probe,EKP)是一种专门用于测量接触电位差(CPD)和功函数的科学仪器,特别适用于与电解质接触的电化学样品研究。通过非接触振动电容方法,EKP可精确测量样品表面与参考探针之间的CPD,从而推导出样品的功函数和费米能级位置。
当与光源耦合时,EKP可测量表面光电压(SPV)——光照下样品表面的电位变化,无论是干界面还是湿界面。系统配备适用电化学比色皿,样品漂浮在电解质上,探针顶端接近样品顶部(无电解质层),底部与电解质接触,可研究样品-电解质界面的化学反应对CPD的影响。
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电化学开尔文探针测量 CPD(接触电位差)值并评估与电解质接触的电化学样品的功函数。 功函数的测量在半导体物理学中特别有用,因为它们在被检查的材料中提供了费米能级的位置。 当电化学开尔文探针与光源耦合时,当干或湿界面被照亮时,可测量
样品的表面光电

压 (SPV)。 电化学 Kelvin 探针配有专门的电化学比色皿。在那里,样品漂浮在电解质上。开尔文探针顶端接近样品的暴露顶部。这样,样品顶部没有会影响测得的 CPD 的电解质层。尽管如此,样品的底部仍与电解质接触。 光线可以照亮样
品的顶面或底部

样品-电解质界面。 样品-电解质界面上可能发生的化学反应会影响 CPD 的测量值。

Kelvin 探针模块

电化学开尔文探针套件包括:

  • 控制器单元,

  • 带探针顶端的 Kelvin Probe 仪器,

  • 电化学比色皿 /

  • 法拉第笼

电化学 Kelvin 探针仪器配备:

  • 实验后用于停放探针顶端的保护槽,

  • 激光指示器直接指示区域,

  • 当仪器被法拉第笼覆盖时帮助处理样品的光源,

  • 激光屏障,用于精确检测探针顶端与样品的距离,

  • Golden 探针顶端,

  • 电化学比色皿样品架,

  • 电化学比色皿,样品放在上面。

电化学比色皿,电化学开尔文探针的关键元件是电化学比色皿套件,其中样品直接放置在比色皿的顶部。

规格

  • 重量: 15 kg,

  • 尺寸:40x40x45 厘米,

  • PC 连接:USB 2.0、

  • 电源:230 V,50 Hz 或      115 V,60 Hz,

  • 测量技术:2 通道锁相放大器,

  • 激光屏障可自动检测基材并防止针尖进入样品,

  • 辅助传感器:湿度、温度、

  • 小灯 ,

  • 用于表面指示的检查点的激光指示器,

  • 样品架:

     – 自由形状的固态,带顶部触点支架,

     – 底部触点支架,

     – 电化学支架,

  • 法拉第笼:标准/气密,带惰性气体流动系统,

  • 测量单位:

偏置电压范围:-5 ÷ 5 V,

电压测量分辨率:0.15 mV,

电流范围:300 nA、30 nA、3      nA、300 pA、

  • 探头顶端:

探针顶端类型:Au 网孔,直径 2.5 mm,

垂直轴上的针尖定位分辨率:20 μm,

自动共振频率扫描 /

可调振荡幅度 /

自动去除顶端的寄生电流,

光源的部分透明度,

典型 CPD 测量距离:0.2 – 1 mm,

  • XY 工作台:

电动,通过软件控制,

尺寸:50 x 50 mm,

移动范围:50 x 50 mm,

  • 电化学比色皿

  • 比色皿类型:标准/底部光学元件、

  • 电极类型:Ag/AgCl 或其他,

  • 电解液容器材质:PTFE,

  • 样品基材:带孔或其他的 Kapton 绝缘箔,

  • 底部光学比色皿

  • 光纤:液体波导,

  • 镜面:紫外线增强或定制,

  • 光学窗口:熔融石英。

优势

需求EKP优势
电化学环境测量样品漂浮在电解质上,顶部无电解质层
高精度CPD0.15 mV分辨率
界面研究样品-电解质界面化学反应影响
双照明模式顶部/底部照明,干/湿界面
安全保护激光屏障防止针尖碰撞
自动优化自动共振扫描、寄生电流去除

电化学开尔文探针以电化学环境CPD测量、0.15 mV高分辨率、双照明模式、精密探针控制为优势,为半导体物理学、光电化学、腐蚀科学、传感器研究等领域提供强大的功函数和表面光电压研究平台。通过独特

的电化学比色皿设计,EKP使研究样品-电解质界面的电荷转移和化学反应成为可能。




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