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PL SERIES
Midas推出了一种台式、单独的纳米压印平台:PL系列PL 200/400/600。该平台提供了一个带有微定位装置的机械平台,用于安装纳米压印室、UV固化源和校准显微镜。它既可以作为纳米压印系统,也可以作为传统的
掩模对准器,同时为您的整个压印过程提供可编程的自动控制。
通过带有微定位装置的机械平台和纳米压印腔室,可以直接将模板上的纳米图案通过物理压印和紫外固化的方式复制到基板的聚合物(如压印胶)上。
在移除或更换部分组件后,可利用其自带的UV光源和校准显微镜进行常规的紫外光刻。这种设计为研发提供了极大的工艺灵活性和兼容性。
•基板尺寸 PL 200:2英寸,PL 400:4英寸,PL 600:6英寸(尺寸较小,形状不规则)
能够处理小尺寸、不规则形状的样品(如芯片、小片),这对于前期昂贵的材料或器件原型开发至关重要。
•压印面积与晶圆尺寸相同
•模板尺寸 PL 200:2,1英寸,PL 400:4,3,1英寸,PL 600:6,4,2,1英寸
•压印压力1 psi标准
•包括模具/基板自动释放-无需特殊工具
•95%强度水平下的紫外线照射时间2~3分钟
•对准能力X、Y、Z和θ(精度2μm)
2µm的对准精度对于许多微纳器件(如光子晶体、生物传感器、某些MEMS)的研发已足够,且可编程自动控制功能方便了工艺的标准化和重复。
如果您的研究或生产需要突破传统光刻的分辨率极限,实现10纳米至数百纳米特征的图形化,并且看重设备的灵活性和桌面化,那么EZImprinting的PL系列是一个极具竞争力的专业选择。它特别适合高校、研究所及企业
研发部门在光子学、生物传感、新材料等前沿领域进行探索。
PL SERIES
Midas推出了一种台式、单独的纳米压印平台:PL系列PL 200/400/600。该平台提供了一个带有微定位装置的机械平台,用于安装纳米压印室、UV固化源和校准显微镜。它既可以作为纳米压印系统,也可以作为传统的
掩模对准器,同时为您的整个压印过程提供可编程的自动控制。
通过带有微定位装置的机械平台和纳米压印腔室,可以直接将模板上的纳米图案通过物理压印和紫外固化的方式复制到基板的聚合物(如压印胶)上。
在移除或更换部分组件后,可利用其自带的UV光源和校准显微镜进行常规的紫外光刻。这种设计为研发提供了极大的工艺灵活性和兼容性。
•基板尺寸 PL 200:2英寸,PL 400:4英寸,PL 600:6英寸(尺寸较小,形状不规则)
能够处理小尺寸、不规则形状的样品(如芯片、小片),这对于前期昂贵的材料或器件原型开发至关重要。
•压印面积与晶圆尺寸相同
•模板尺寸 PL 200:2,1英寸,PL 400:4,3,1英寸,PL 600:6,4,2,1英寸
•压印压力1 psi标准
•包括模具/基板自动释放-无需特殊工具
•95%强度水平下的紫外线照射时间2~3分钟
•对准能力X、Y、Z和θ(精度2μm)
2µm的对准精度对于许多微纳器件(如光子晶体、生物传感器、某些MEMS)的研发已足够,且可编程自动控制功能方便了工艺的标准化和重复。
如果您的研究或生产需要突破传统光刻的分辨率极限,实现10纳米至数百纳米特征的图形化,并且看重设备的灵活性和桌面化,那么EZImprinting的PL系列是一个极具竞争力的专业选择。它特别适合高校、研究所及企业
研发部门在光子学、生物传感、新材料等前沿领域进行探索。
