俄歇电子能谱及低能电子衍射分析系统，又称俄歇电子能谱AES及低能电子衍射LEED样品表面深度分析系统。基于俄歇电子能谱AES、低能电子衍射LEED、及氩离子溅射深度分布的分析系统，完成对薄膜及合金的元素

组成和深度分布的分析。非接触式测量薄膜及合金元素组成，带样品预抽真空室 （load-lock腔室）。

特性：

• 对原子结构，元素组成和厚度分析达到“亚纳米级”精度

• 大范围样品分析

• 半自动化操作

系统特性：

• 俄歇电子能谱AES分析器

• 分析器型号-延迟型区域分析器，自带同轴电子

• 能量分辨率：<5%

• 工作距离 10mm

• 检测器: 1e7至1e8增幅范围的电子倍增器通道

• 安装法兰-4.5英寸O.D.标准CF法兰（NW63CF)

电子：

• 型号 ：带可调焦距和束斑直径的双静电透镜

• 束流电压：0-3KV

• 束流电流：50uA

• 束流直径：800um

• 灯丝：钨灯丝

• 磁罩：带前置保护壳的Mu罩

深度离子溅射：

• 离子源  在磁场内电子冲击形成离子

• 离子化阴极  钨-铼灯丝

• 直接安装于70mmO.D.CF法兰

• 束流电流：10 uA

• 束流能量：0-3keV

• 束流尺寸;直径范围5至25mm

• 束流均匀度：<5%

• 气体输入：经过泄漏阀气体直接输入至离子源

• 安装法兰：23/4英寸（70mm）O.D.CF法兰

样品传递操作：

• 样品尺寸：尺寸从10mm-20mm

• 样品置入：单个样品置入

• 样品传输：线型磁动样品传输臂

真空系统：

• 腔体：100mm焊接超高真空腔体（304不锈钢）

• 真空泵：60L/sec离子泵和50l/sec的分子泵，配备匹配的前级泵

• 真空规：宽量程真空规

• 真空兼容：超高真空材料

• 烘烤：真空下可烘烤至250度

这套AES-LEED系统是表面科学与工程领域的“手术刀”。它通过对材料进行元素、结构、深度的逐层精细分析，为理解材料的表面行为、优化薄膜工艺、解决器件失效等问题，提供了在原子层面上无可替代的实验证据。