电子束蒸发源，对于使用常用热蒸发技术非常难蒸发的材料,电子束蒸发是一种有效的蒸发手段.通过高能电子束射向靶材来升高靶材温度.相比于通常辐射或间接电阻加热方式,使用这种方式来达到温度没有本质的限制。

我司提供的这款电子束蒸发源是由高质量，完全与高真空兼容材料构成，并且可以烘烤至250℃。

应用领域：

表面科学

金属薄膜接触脚

MBE掺杂应用

型号参数：

多种不同型号提供不同功率的电子束蒸发源，500W，甚至按照客户需要提供更高功率的电子束蒸发源。

提供Flux电流监控，监控蒸镀速率。

坩埚容量小，节约靶材，提供0.21 mm3，1000 mm3的坩埚。

在高真空中，可以烘烤至250℃。

自动化软件控制；

手动/马达驱动挡板；

占用腔体空间小

冷却水流量小

这款电子束蒸发源是针对 高难度材料沉积 和 高标准真空环境的工具。它将强大的加热能力、精密的工艺控制与优异的真空兼容性融为一体，完美解决了传统蒸发技术在高熔点、高纯度材料制备中的痛点。对于从事前

沿材料研究、半导体工艺开发或精密光学镀膜的实验室及生产线而言，它是实现高质量、可重复薄膜沉积的 可靠且不可或缺的关键部件。其灵活的配置选项（功率、坩埚、控制方式）也确保了它能适应从基础研发到小

批量生产的各种需求。