专注于用于高温超导（HTS）带材生产的卷对卷（R2R）系统。我们的综合leyu·乐鱼(中国)体育官方网站包括脉冲激光沉积（PLD）、磁控溅射、离子束辅助沉积（IBAD）以及专为YBCO和REBCO超导体制造设计的蒸发系统。 凭借数十年的薄膜

沉积技术专业知识，我们提供缓冲层沉积、外延生长和HTS薄膜制造的完整交钥匙解决方案。我们的系统支持研发规模开发和大批量生产环境，服务于全球优异的超导体制造商、国家实验室和研究机构。

特点与优势：

1. 优异的工艺精度与控制能力

• 高精度温度控制：配备7区单独温控的SiC加热系统，基带表面温度可达900℃，确保外延生长的高质量与一致性。

• 稳定的张力与速度控制：闭环控制带材张力与传输速度，在40–60米/小时工艺区间内速度精度可达±1米/小时，保障长带材沉积的均匀性。

• 灵活的靶材与羽流管理：双10英寸靶材配置，支持摆动与定位编程，结合多羽流沉积能力，实现复杂成分与多层结构的高效沉积。

2. 可靠的量产级工程设计

• 高真空与洁净环境：腔体采用镜面抛光不锈钢，极限真空达5×10⁻⁷ Torr，配备1400 L/s大抽速分子泵组，确保工艺环境纯净。

• 强化的热管理与可靠性：全水冷腔体设计、水冷靶材保护板及加热器背板冷却，保障系统长时间连续稳定运行。

• 模块化与可扩展性：系统支持与磁控溅射、IBAD、蒸发等多种沉积模块集成，提供从缓冲层到超导层的完整交钥匙解决方案。

3. 智能化自动化操作

• 全计算机集成控制：通过中心控制软件实现沉积流程、温度、速度、真空、气体的全自动控制与监控。

• 安全的程序化逻辑：具备定时、定长自动停车功能，集成激光快门、温度联锁等多重安全保护。

• 便捷的维护与调整：靶材距离手动可调，带材间距通过标准垫圈快速更换（1/1.5/2 mm可选），维护窗口设计合理。

4. 优异的性价比与生产柔性

• 优化的靶材利用率：靶材可旋转与摆动，提升利用率，降低耗材成本。

• 适应多种带宽：兼容12 mm宽基带，通过多带并行设计（可5条）提高单次生产吞吐量。

• 兼顾研发与生产：系统既可满足工艺开发的高精度要求，也能支持高达500米/小时的高速量产模式。

提供多种高温超导带材PLD沉积系统。主要包括以下内容：

用于REBCO和缓冲层的PLD沉积系统，多重传递系统，黑体基材加热器，闭环张力与速度控制，多羽流能力，多区加热器。

主要用于以卷绕方式在百米级别金属基带上沉积REBCO涂层导体，此设备由一个带左右卷轴室、中心沉积室的脉冲激光沉积（PLD）系统组成。不包括激光设备（准分子激光器）和光学箱。加热温度范围为150 mm x 5个

胶带（64 mm至68 mm，取决于胶带间距）。胶带宽度为12mm。

技术规格：

沉积室

1单腔室

沉积室容器：H1100 mm x W 1200 mm x D600 mm（±5 mm）

圆柱形卷筒室容器：直径750 mm x D500 mm（对称，±5 mm）

以上尺寸不包括光学侧、控制台等。

1）材质：不锈钢（SUS304），表面抛光（镜面抛光）

2）冷却水路：沉积室的顶部、底部、前侧和后侧。

3）沉积室端口

顶部：ICF253、ICF114、ICF70和ISO-F，用于安装主泵、旁路泵、电气线路、热电偶等。

两侧：ICF152用于观察窗口。

正面：一个带手动快门的ICF152观察窗口

4） 卷筒室端口

两侧：ICF152用于观察窗口

背面：卷轴接入法兰、编码器接入法兰，

2 基板加热器部件

1）基带表面温度：900℃

2）SiC加热器形状；

U形圆棒形状；

两端均与电极端子相连；

加热器使用5个长加热器和4个短加热器。

3）加热背板：水冷却。

4）基带-靶材距离：45mm-100mm

基带-靶材距离调整方式：打开腔室门，手动操作沉积室顶部的手柄进行上下调整。

5）温度控制器：至少包含7个温度控制部分。

6）下侧转向辊：一侧有5个轮子。

• 直径150mm；

• 对基带的接触面进行电抛光，以提高平整度；

• 基带间距：1mm（单面法兰）；

• 基带之间的基本间距为1毫米，但通过更换安装在每个卷轴和辊子支架上的间隔环，间距可以改为1.5毫米或2毫米。这些1.5mm和2mm的间隔环已连接；

• 该辊与基带加热机构集成在一起，一起上下移动。

8）上侧转向辊，带辅助驱动：单侧有4个轮子。

与上述相同，对基带的接触面进行电抛光。

伺服电机安装在腔室后部大气侧的左右两侧。伺服电机的旋转力可以通过锁定单侧的任何一个滚轮传递。

3 靶材部件

1）靶材尺寸：直径10英寸

2）靶材数量：2个

3）靶材夹具的设计：一个放置靶材的板和一个安装在底部的U形夹具。

4）靶材转速：速度控制电机

5）靶材定位：伺服电机。程序可以移动靶材以摆动并设置更换位置。靶材摆动程序可以从中心对称摆动到两端。也可以非对称地进行设置。

6）靶材保护板：靶材上的水冷板。可调激光输入狭缝板，四个方向的孔径调整范围。

4 卷对卷部件

1）卷筒直径：外径420mm（有效卷绕直径400mm）

内径：100mm

2）带材移动：左右卷轴机制相同

带材速度由编码器读数控制。

3）带材移动速度：500米/小时

在40-60m/h的速度下，精度提高到+/-1米/小时。

4）带材张力：卷绕侧为大张力值。

另一侧设定较低的张力值，保持张力进行剥离。

5）张力监测器：在5转辊的左端和右端，设定的张力值反馈给卷轴驱动器中的离合器。

5 工艺气体和真空泵组

1）工艺气体：氧气，2路，2个 MFC（500sccm）。

2）排气管线：氮气或直接从大气引入

3）基压：5x10-7Torr

4）分子泵:1400L/s（轴承型）

5）旋转泵：1083L/min

6）泵管道：具有以下3条管道，根据情况切换。

• 主泵管道：气动开/关闸阀，使用与分子泵相同的ICF253闸阀。

• 工艺泵管道（旁路）：压力控制蝶阀

• 粗泵管道，该管道从大气压力开始。

7）真空计：用于过程控制压力的电容式压力计 （133Pa/1Torr 范围）

电容压力计，用于工艺控制压力（133Pa/1Torr范围）

全量程压力计，用于从大气到基压。

热电偶压力计，用于粗泵管道。

6 控制支架

1）该系统需要两个控制架。主要是加热器电源单元。

2）一个PC控制

3）定时程序：可以设置时间或带材长度，并在以下功能自动停止时进行控制：

• 关闭激光器

• 为安全停止而降低基片加热

• 停止氧气流量

7 激光光学系统

1）带窗聚焦透镜

透镜尺寸：直径140mm，曲率半径R=760mm。

聚焦透镜也用作真空和大气之间的密封窗口。

窗口的位置可调节范围为+/- 50mm。

有效内径为120mm。

包括4个备用透镜。

2）系统包括两个激光扫描光学元件。

与308nm波长（XeCl）相对应的扫描镜。

3）扫描镜安装支架

双轴α、β轴旋转台。

4）光学盒

材质：铝和亚克力。

在光学接入侧设有联锁面板。

5）激光快门

位于激光器前面的气动快门。

6）反射接收板：用于接收激光的反射

7）激光光束高度：1400mm

我们不仅提供一台设备，更提供从工艺理解、系统设计、安装调试到持续支持的全价值链服务。我们的系统已在全球超导企业、国家实验室和研究机构稳定运行，见证了从米级短样到公里级长带的产业突破。