
清空记录
历史记录
取消
清空记录
历史记录

纳米压印系统
Midas推出了一个台式纳米压印平台。该平台提供了一个带有微定位装置的机械平台,用于安装纳米压印室、UV固化源和校准显微镜。
它既可以作为纳米压印系统,也可以作为传统的掩模对准器,同时为您的整个压印过程提供可编程的自动控制。
独有的特点:
分辨率低于10nm,产率为99%,
支持硬模(如硅模)和软模(如PDMS),
可变的模具和基板尺寸提供了便利性和灵活性,
自动释放过程可防止分离过程中模具/基板损坏,并较大限度地提高每个印记的产量,
多种应用的多功能流程,
光学设备、显示器、数据存储、生物医学器件、半导体IC、化学合成和先进材料,
带触摸屏用户界面的可编程PLC允许通过定制参数进行过程控制,通过带触摸屏的PLC(可编程逻辑控制器) 进行过程控制,允许用户定制并存储复杂的工艺参数,确保每次操作的精确重复,减少了人为误差,
UV固化纳米压印抗蚀剂对硬度或厚度没有限制,与传统光刻工艺兼容。
该系统精细定位于需要快速原型开发、小批量生产及前沿研究的高校实验室、研究所和高科技企业研发中心。其广泛的应用适应性覆盖了从光学器件、显示技术、生物医学芯片到半导体IC等多个前列领域,是连接纳米
科学研究与产业应用转化的理想桥梁。
纳米压印系统
Midas推出了一个台式纳米压印平台。该平台提供了一个带有微定位装置的机械平台,用于安装纳米压印室、UV固化源和校准显微镜。
它既可以作为纳米压印系统,也可以作为传统的掩模对准器,同时为您的整个压印过程提供可编程的自动控制。
独有的特点:
分辨率低于10nm,产率为99%,
支持硬模(如硅模)和软模(如PDMS),
可变的模具和基板尺寸提供了便利性和灵活性,
自动释放过程可防止分离过程中模具/基板损坏,并较大限度地提高每个印记的产量,
多种应用的多功能流程,
光学设备、显示器、数据存储、生物医学器件、半导体IC、化学合成和先进材料,
带触摸屏用户界面的可编程PLC允许通过定制参数进行过程控制,通过带触摸屏的PLC(可编程逻辑控制器) 进行过程控制,允许用户定制并存储复杂的工艺参数,确保每次操作的精确重复,减少了人为误差,
UV固化纳米压印抗蚀剂对硬度或厚度没有限制,与传统光刻工艺兼容。
该系统精细定位于需要快速原型开发、小批量生产及前沿研究的高校实验室、研究所和高科技企业研发中心。其广泛的应用适应性覆盖了从光学器件、显示技术、生物医学芯片到半导体IC等多个前列领域,是连接纳米
科学研究与产业应用转化的理想桥梁。
