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SPIN-1200T匀胶机
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SPIN-1200T是一款面向4英寸及以下小尺寸基板的高精度匀胶机,其设计在紧凑的机身内集成了强大的工艺控制能力,非常适合研发与特种应用。
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匀胶机有很多种称谓,英文叫Spin Coater或者Spin Processor,又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机,总的来说,他们原理都

是一样的,既在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。

匀胶机适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺, 可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。匀胶机可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蚀中也被使用。

由我司提供的匀胶机,在高校、研究所及半导体产业享有很高的声誉,相信能满足您多种不同应用要求。

产地:韩国MIDAS公司,

型号:SPIN-1200T,

厂家链接:http://www.midas-china.com.cn/

SPIN-1200T

触摸面板控制,各种涂层溶液的紧凑单元,可编程配方管理,操作简单

•匀胶机

•基板尺寸:小于等于4英寸

•转速:300~7000 rpm(空载时),误差小于3%(海外10000 rpm)

•菜单程序:50步,50个配方

•卡盘材料:改性铝、缩醛

•碗尺寸:8英寸

•碗材料:聚丙烯

•尺寸(mm)230(宽)*340(深)*260(高)

SPIN-1200T匀胶机
SPIN-1200T匀胶机

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是一样的,既在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。

匀胶机适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺, 可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。匀胶机可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蚀中也被使用。

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•匀胶机

•基板尺寸:小于等于4英寸

•转速:300~7000 rpm(空载时),误差小于3%(海外10000 rpm)

•菜单程序:50步,50个配方

•卡盘材料:改性铝、缩醛

•碗尺寸:8英寸

•碗材料:聚丙烯

•尺寸(mm)230(宽)*340(深)*260(高)

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