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浏览器自带分享功能也很好用哦~MDA-600S光刻机
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；
MIDAS为全球半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上较早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术
研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多大型企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优异的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。
产地：韩国MIDAS公司，能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比。
型号：MDA-600S
厂家链接：http://www.midas-china.com.cn/
主要特点:
- 光源强度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系统控制：手动、半自动和全自动控制；
- 曝光模式：真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盘范围可调；
- 独特技术：可双面对准，可双面光刻，具有IR和CCD模式；
- 双CCD显微镜系统，可放大1000倍，显示屏直接调节，比传统目镜对准更方便快捷，易于操作；
- 特殊的基底卡盘可定做；
- 具有楔形补偿功能。
技术细节：
双面工艺的独门利器：其独特的双面对准与光刻能力是一大亮点。这使其成为制造MEMS传感器、三维集成器件、射频器件和特定类型探针卡等需要正反面图形精密对准的复杂器件的理想选择。
功能齐全的曝光工具箱：除常规接触/接近模式外，还支持投影模式。这种非接触式曝光能避免掩模版与样品损伤，在处理大尺寸或表面不平整的基板（如部分陶瓷或已图形的衬底）时特别有价值。
高效的半自动操作：虽然是手动对准，但Z轴和Theta轴为电机驱动，并具备自动调平功能。配合可存储上百个配方的PC系统，能明显提升重复性工艺的效率和一致性。
高性价比的6英寸平台：在支持6英寸晶圆的半自动/全自动光刻机中，它在提供双面曝光、投影模式等高级功能的同时，价格通常比定位更高的全自动对准机型更具竞争力。
MDA-600S光刻机
MDA-600S光刻机
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；
MIDAS为全球半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上较早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术
研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多大型企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优异的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。
产地：韩国MIDAS公司，能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比。
型号：MDA-600S
厂家链接：http://www.midas-china.com.cn/
主要特点:
- 光源强度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系统控制：手动、半自动和全自动控制；
- 曝光模式：真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盘范围可调；
- 独特技术：可双面对准，可双面光刻，具有IR和CCD模式；
- 双CCD显微镜系统，可放大1000倍，显示屏直接调节，比传统目镜对准更方便快捷，易于操作；
- 特殊的基底卡盘可定做；
- 具有楔形补偿功能。
技术细节：
双面工艺的独门利器：其独特的双面对准与光刻能力是一大亮点。这使其成为制造MEMS传感器、三维集成器件、射频器件和特定类型探针卡等需要正反面图形精密对准的复杂器件的理想选择。
功能齐全的曝光工具箱：除常规接触/接近模式外，还支持投影模式。这种非接触式曝光能避免掩模版与样品损伤，在处理大尺寸或表面不平整的基板（如部分陶瓷或已图形的衬底）时特别有价值。
高效的半自动操作：虽然是手动对准，但Z轴和Theta轴为电机驱动，并具备自动调平功能。配合可存储上百个配方的PC系统，能明显提升重复性工艺的效率和一致性。
高性价比的6英寸平台：在支持6英寸晶圆的半自动/全自动光刻机中，它在提供双面曝光、投影模式等高级功能的同时，价格通常比定位更高的全自动对准机型更具竞争力。
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