MDA-80MS光刻机

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；

MIDAS为全球半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上较早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术

研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多大型企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优异的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。

产地：韩国MIDAS公司，能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比。

型号：MDA-80MS

厂家链接：http://www.midas-china.com.cn/

MDA-80MS

简单的操作和安装，PLC操作与PC控制，小型半自动系统，图像抓取和数据记录，100多个程序配方

•PC控制，半自动操作

•掩模版尺寸达到9英寸

•基板尺寸为8英寸

•均匀光束尺寸8.25*8.25英寸

•光源：紫外线灯，1 kW

•光束波长350~450 nm

•光束均匀性 <±5%

•365 nm强度 ~25 mW/㎠

•手动操作

•对准精度1 um

•操作模式：软、硬、真空接触和接近

•工艺分辨率：1 um@1 um PR厚度，真空接触

•尺寸（mm）：1400（宽）*1100（深）*1600（高）

对于LED芯片制造商、以及从事8英寸碳化硅、氮化镓等宽禁带半导体器件光刻工艺的用户而言，如果其主要需求是稳定的单层或简单多层图形转移，并追求高的生产性价比，那么MDA-80MS是一款极具吸引力的主力

生产型设备。它在自动化程度上虽不如MDA-40/60FA系列，但在产能和尺寸上更具优势，是规模化生产的务实之选。