MDA-20FA全自动光刻机

MIDAS SYSTEM公司开发并生产用于半导体、MEMS、LED及纳米技术相关的实验室和工业领域的光罩对准曝光机和甩胶机，是韩国较早研发并商业化光罩对准曝光机的企业，始终致力于不断完善、增强技术型企

业的核心竞争力。

MIDAS SYSTEM公司具有专业化的设计团队，以客户需要为己任，生产、供应满足国内外企业、科研院所不断增长的应用需求，并且提供半导体工艺相关的设备需要。

MDA-20FA型曝光机是一款MIDAS公司新开发的leyu·乐鱼(中国)体育官方网站，为下一代全区域光刻系统。这一新型半自动化对准曝光平台具有更高的重复光刻精度以及更可靠的操作，非常适合陶瓷及其他探针卡应用，同时MDA-12SA型半

动化光罩对准曝光机具有更高的生产能力和容易操控。

厂家链接：www.midas-china.com.cn

MDA-20FA操作简单，PLC操作，PC控制，图像采集和数据记录，100多个程序配方，显微镜位置控制系统，自动对齐标记搜索功能

类型：全自动

掩模版尺寸：大尺寸订制

基板尺寸：大尺寸订制

均匀光束尺寸：大尺寸订制

紫外线光源：紫外线灯，2KW，5KW

光束波长：350~450nm

光束均匀度 <±5%

365 nm强度 2千瓦：~25毫瓦/㎠5千瓦：~45毫瓦/㎠

对齐方式：全自动

对准精度：1 um

加工方式：软、硬、真空接触、接近

过程分辨率：透镜：>3 um，反射镜：>9 um

适用场景：

• PCB/封装基板：制造线宽在10µm以上的高密度互连（HDI）板或载板。

• 平板显示（FPD）：用于OLED或LCD显示面板的背板TFT电路制造。

• 大尺寸MEMS或传感器阵列：例如大面积触控传感器、X射线探测器面板。

• 先进封装：如面板级Fan-Out封装的重布线层（RDL）制造。