MDA-12SA光刻机

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；

MIDAS为全球半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上较早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术

研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多大型企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优异的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。

产地：韩国MIDAS公司，能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比

型号：MDA-12SA

厂家链接：http://www.midas-china.com.cn/

操作简单，可编程控制器（PLC）操作，PC控制，图像采集和数据记录，100多个程序配方，电动操纵杆控制，电动变焦显微镜和工作台，显微镜位置控制系统

•操纵杆控制，半自动

•掩模版尺寸高达14英寸

•基板尺寸8~12英寸

•均匀光束尺寸13.25*13.25英寸

•紫外线光源：紫外线灯，2 kW，5 kW

•光束波长：350~450 nm

•光束均匀性：<±5%

•365 nm强度：2 kW:~25 mW/㎠，5 kW:~45 mW/㎠

•定位方法：操纵杆控制，半自动

•对准精度：1 um

•操作模式：软、硬、真空接触和接近

•工艺分辨率：2 um@1 um PR厚度，真空接触