MDA-12FA全自动光刻机

MIDAS SYSTEM公司开发并生产用于半导体、MEMS、LED及纳米技术相关的实验室和工业领域的光罩对准曝光机和甩胶机，是韩国较早研发并商业化光罩对准曝光机的企业，始终致力于不断完善、增强技术型企业的

核心竞争力。

MIDAS SYSTEM公司具有专业化的设计团队，以客户需要为己任，生产、供应满足国内外企业、科研院所不断增长的应用需求，并且提供半导体工艺相关的设备需要。

MDA-12FA型曝光机是一款MIDAS公司新开发的leyu·乐鱼(中国)体育官方网站，为下一代全区域光刻系统。这一新型半自动化对准曝光平台具有更高的重复光刻精度以及更可靠的操作，非常适合陶瓷及其他探针卡应用，同时MDA-12SA型半动化

光罩对准曝光机具有更高的生产能力和容易操控。

厂家链接：www.midas-china.com.cn

MDA-12FA

操作简单，PLC操作，PC控制，图像采集和数据记录，100多个程序配方，轻松切换不同leyu·乐鱼(中国)体育官方网站的工艺参数；显微镜位置控制系统，自动对齐标记搜索功能，确保了在大尺寸基板上高精度、高重复性的对准，这是实现稳

定量产的关键。

兼容8至12英寸基板，直接对接主流半导体和先进封装产线。

类型：全自动

掩模版尺寸：上限尺寸14英寸

基板尺寸：8~12英寸

均匀梁尺寸：13.25*13.25英寸

紫外线光源：紫外线灯，2KW，5KW

光束波长：350~450nm

光束均匀度 <±5%

365 nm强度  2千瓦：~25毫瓦/㎠5千瓦：~45毫瓦/㎠

对齐方式：全自动

对准精度：1 um

加工方式：软、硬、真空接触、接近

工艺分辨率：2 um@1 um PR厚度，真空接触