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扫描开尔文探针是一种非接触、非破坏性振动电容装置,用于测试导电材料的功函或半导体材料表面的表面电势,表面功函。由材料表面顶部的1-3层原子或分子决定,因而开尔文探针是一种非常灵敏的表面分析技术。
KP Technology公司目前可提供具有1-3 meV业界较高分辨率的测试系统。
主要特点:
● 功函分辨率< 3meV
● 扫描面积:5mm to 300mm(四种型号,每种型号扫描面积不同)
● 扫描分辨率:317.5nm
● 自动高度调节
应用领域:
● 有机和非有机半导体,
● 金属
● 薄膜
● 太阳能电池和有机光伏材料
● 腐蚀
升级附件:
● 大气光子发射系统
● 表面光电压(QTH or LED)
● SPS表面光电压光谱(400-1000nm)
● 金或不锈钢探针,直径0.05mm to 20mm
● 相对湿度控制和氮气环境箱
扫描开尔文探针系统是表面功函测量技术的较高水平,系统特别适合半导体器件研发实验室,光伏材料与器件研究机构,腐蚀科学与防护工程团队,表面科学和界面物理研究组,先进功能材料开发企业。其主要价值
在于1-3 meV分辨率是业内典范,为表面科学研究提供前所未有的细节的灵敏度,从基础表面科学到工业质量控制,覆盖半导体、光伏、腐蚀防护等多个关键领域的应用适用性,光激发系统的集成将传统SKP扩展为
完整表面光电特性分析平台,且既满足实验室精密测量的要求,又具备工业环境下的稳定性和重复性的工业级设计。凭借其超高分辨率、非接触测量和多功能扩展的特点,这款扫描开尔文探针系统已成为表面电子特
性表征领域不可或缺的工具,为新材料开发、器件优化和质量控制提供关键的技术支持。
扫描开尔文探针是一种非接触、非破坏性振动电容装置,用于测试导电材料的功函或半导体材料表面的表面电势,表面功函。由材料表面顶部的1-3层原子或分子决定,因而开尔文探针是一种非常灵敏的表面分析技术。
KP Technology公司目前可提供具有1-3 meV业界较高分辨率的测试系统。
主要特点:
● 功函分辨率< 3meV
● 扫描面积:5mm to 300mm(四种型号,每种型号扫描面积不同)
● 扫描分辨率:317.5nm
● 自动高度调节
应用领域:
● 有机和非有机半导体,
● 金属
● 薄膜
● 太阳能电池和有机光伏材料
● 腐蚀
升级附件:
● 大气光子发射系统
● 表面光电压(QTH or LED)
● SPS表面光电压光谱(400-1000nm)
● 金或不锈钢探针,直径0.05mm to 20mm
● 相对湿度控制和氮气环境箱
扫描开尔文探针系统是表面功函测量技术的较高水平,系统特别适合半导体器件研发实验室,光伏材料与器件研究机构,腐蚀科学与防护工程团队,表面科学和界面物理研究组,先进功能材料开发企业。其主要价值
在于1-3 meV分辨率是业内典范,为表面科学研究提供前所未有的细节的灵敏度,从基础表面科学到工业质量控制,覆盖半导体、光伏、腐蚀防护等多个关键领域的应用适用性,光激发系统的集成将传统SKP扩展为
完整表面光电特性分析平台,且既满足实验室精密测量的要求,又具备工业环境下的稳定性和重复性的工业级设计。凭借其超高分辨率、非接触测量和多功能扩展的特点,这款扫描开尔文探针系统已成为表面电子特
性表征领域不可或缺的工具,为新材料开发、器件优化和质量控制提供关键的技术支持。
