主要特点

• 通过结合纳米颗粒和薄膜生成复杂材料

• 使用 NL-UHV 的无烃纳米颗粒

• 宽敞且易于访问的腔室，非常适合精密和复杂的基材

• 向上或向下的源配置

• 与第三方来源兼容

• 使用旋转、加热和偏置选项对 3D 对象进行涂层

• 全自动和配方驱动的软件

基本系统配置

• 沉积室的大小 : 450 x 450 x 450 毫米

• 基础压力 : < 5e– 7托

• 取向 : 溅射

• 示例表 : 4 英寸晶圆，20rpm 旋转

• 泵: 700 升/秒涡轮增压器，7.2 米3/hr 干式前级泵

• 阀: 手动阀、百叶窗和线性驱动器

• 控制软件 : 配方驱动过程、电源控制和数据记录

• 原位监测 : 用于过程监控和终点检测的石英晶体微量天平

• 源端口 : 多达 6 个沉积源

• 源类型: 纳米粒子源、磁控溅射源、迷你电子束蒸发器、热舟源K 池、离子源、射频原子源

选项

• 可拆卸的沉积屏蔽层

• 朝上的源几何体

• 样品台：

– 用于纳米粒子加速的直流偏压

– 用于样品表面清洁的射频偏置

– 加热至 800°C

• 阀门、百叶窗和线性驱动器的自动化选项

• 涡轮前方的可调节挡板，以增加动态压力范围，以便在较低气体流量下进行溅射

• 带传输臂的单独泵送负载锁

控制软件

Spectrum Software Brochure

直观的“拖放”用户界面易于使用，并允许完全自动化的抽真空和沉积序列。

特征：

⇒全自动抽空和排气

⇒ 配置虚拟机架以适合您的流程

⇒ 易于添加和删除设备

⇒ 实时图表

⇒ 连锁监控

⇒ 配方控制

⇒ 数据记录功能