主要特点

• 沉积无烃和非团聚的纳米颗粒

• 从亚单层到高孔隙率 3-D 纳米涂层

• 表面等离子体清洁和功能化

• 生成纯金属或化合物纳米颗粒，如氧化物和氮化物。

• 多种材料可供选择，包括 Ag、Au、Cu、Ni、Ir 和 Pt

• 使用石英晶体微量天平 （QCM） 进行实时沉积控制

• 可重复的工艺，典型循环时间为 30 分钟

• 室温沉积与石墨烯、膜和塑料等精密基材兼容

规格

• 重量：约 60 公斤（113 磅）

• 尺寸 ：（长x宽x高）70 x 50 x 60 厘米（27.6x 19.7 x 23.6 英寸）

消耗品

• 目标大小 ：直径 1 英寸（25.4 毫米），更大厚度 3 毫米

• 更大采样量： 直径 50 毫米

• 材料 ：导电材料，包括 Ag、Au、Pt、Cu、Ni、Ti、Ir

控制软件

直观的用户界面易于使用，不需要任何真空经验。预装的沉积配方使用户能够立即开始沉积纳米颗粒。

突出

• 抽真空和沉积序列的完全自动化。

• 针对 Au、Ag 和 Pt 等常见材料的预加载优化沉积设置。

• 高级用户可以选择控制沉积条件，以根据他们的特定需求控制纳米颗粒的尺寸和沉积速率。

• 使用沉积重量或沉积时间控制纳米颗粒负载。

• 自动记录所有过程和真空参数。