这是一个高价值的直写激光光刻机系统，它用亚微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蚀剂涂层表面大面积书写。你可以写任何东西，从光掩膜到基础科学或应用科学的研究原型，集成相机可以用来调整现有的功能写。

我们对其进行了优化，以便于使用和简单维护，较大限度地利用现成的部件，并保证优异的书写质量或功能。直接激光光刻技术通过消除光掩模生产对外部供应商的依赖，降低了微流体、微电子、微机械和材料科学研究

等领域的成本和执行时间。无掩模光刻技术可以随意进行纳米图案化，而不需要缓慢而昂贵的光掩模。这种便利性对于研究和快速原型制作特别有用。这款台式机型，在性能上没有任何妥协，从而补充了现有的优势。

将紫外激光束聚焦到衍射受限的点上，并扫描该点以曝光光刻胶上的任意图案。

为了曝光大型晶圆，精密步进器会移动晶圆，并允许拼接多次曝光。能够在6英寸晶圆上产生小于（CD）0.5μm的特征。

全新的Gen2 BEAM配件现在将成为所有系统的标准配置。期待高分辨率（<0.5 um）和高速图案化，以及改进的缝合。

Compact

全功能无掩模光刻，比台式电脑还小。

Powerful

亚微米分辨率，单层曝光时间只需两秒钟

Ultrafast autofocus，

超快自动对焦

当与我们的闭环聚焦光学元件结合时，压电致动器在不到一秒钟的时间内到达焦点。

No-fuss multilayer， 多层书写

半自动对齐允许在几分钟内完成多层对齐。

附带的软件可以快速完成任何图案制作工作；只需加载、对齐和曝光即可。

导航类似于CNC系统。在多层曝光过程中，GDS图案被叠加以进行可视化。控制GUI（左窗口）有一个加载的GDS的小地图，可以一键导航到晶圆上的任何区域。

技术指标