MDA-20SA光刻机
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；
MIDAS为全球半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上较早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术

研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多大型企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优异的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。
产地：韩国MIDAS公司，能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，高性价比
型号：MDA-20SA
厂家链接：http://www.midas-china.com.cn/
MDA-20SA

操作简单，可编程控制器（PLC）操作，PC控制，图像采集和数据记录，100多个程序配方，电动操纵杆控制，电动变焦显微镜和工作台，显微镜位置控制系统

操纵杆控制，半自动

掩模版尺寸规格，用户订制

基板尺寸规格（大面积），用户订制

均匀光束规格，用户订制

紫外线光源：紫外线灯，5 kW

光束波长350~450 nm

光束均匀度<±7%

365 nm强度5 kW: ~45 mW/㎠

对准方法：操纵手柄控制半自动

对准精度1 um

工艺模式：软、硬、真空接触和接近

分辨率：透镜 >3 um，反射镜：>9 um

MDA-20SA不是一款通用设备，而是一把为解决特定工艺难题而打造的“特种工具”，它面向的是那些无法使用标准圆形硅片的特殊应用，例如：

• 大尺寸平板或面板级封装；

• 非硅基的特殊材料（如陶瓷、玻璃、金属）上的图形化；

• 大型MEMS或传感器基板；

• 其他需要非标尺寸光刻的研发或小批量生产；

如果您所在的领域恰好有此类非标准、大面积的图形化需求，那么MDA-20SA这种可定制化的解决方案就显示出了其不可替代的价值。