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芯片到芯片键合机
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这款芯片到芯片键合机是一款专为微机电系统(MEMS)、先进封装及半导体研发领域设计的精密设备。它实现了三维结构或晶圆级封装中两个单芯片在微米级的精确对准与键合。设备专为研究机构定制化需求而设计,通过集成六轴对准、高温加热与高压电源,支持从手动对准到执行阳极键合、共晶键合及各种胶合工艺的全流程,是构建复杂三维微系统与进行异质集成的关键工具。
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在MEMS制造中,构建三维结构或封装通常需要两个单芯片的精确对准和键合。使用芯片到芯片键合器(CCB),可以手动对齐两个芯片。然后可以使芯片接触,以进行阳极键合或各种胶合过程。单芯片对准级包括

三个线性轴和三个旋转轴,为大多数对准应用提供了足够的自由度。下芯片夹在基板上,上芯片由针固定。两个真空保持器都可以单独调节和切换。为了执行阳极键合过程,提供了加热板和高压源。在控制器单元

上调节键合电压,该控制器单元监测电压和键合电流。加热板的温度也在控制器单元上进行调节。在MEMS制造中,

构建三维结构或封装通常需要两个单芯片的精确对准和键合。使用芯片到芯片键合机,可以手动对齐两个芯片。然后可以使芯片接触,以进行阳极键合或各种胶合过程。单芯片对准级包括三个线性轴和三个旋转轴,为大多数对准应用提供了足够的自由度。下芯片夹在基板上,上芯片由针固定。两个真空保持器都可以单独调节和切换。为了执行阳极键合过程,提供了加热板和高压源。在控制器单元上调节键合电压,该控制器单元监测电压和键合电流。加热板的温

度也在控制器单元

上进行调节。该设备专为研究机构设计,可适应您的特殊应用。

技术指标:

芯片尺寸:25 x 25毫米----3 x 3毫米

芯片夹紧机构:真空

加热卡盘

温度:520°C

加热板尺寸:40 x 40毫米

真空夹紧孔:Ø1.5 mm

加热功率:200 W

温度控制器:Jumo

温度传感器:PT100

针夹持上切屑

真空孔:Ø1.6mm

高压电源

电压:可调200至1500 V DC

功率:1.5W

显示器:电压和电流模拟

透明卡盘(可选)

尺寸:40 x 40毫米

真空夹紧孔:Ø1.5 mm

可调节范围

X和Y范围:对于加热板,25mm,刻度步长10μm,->灵敏度2μm

Z范围:真空针,25mm,刻度步长10μm,->灵敏度2μm

旋转:360°,灵敏度0.01°

倾斜度:±4°,灵敏度0.005°

安装要求:电源230V AC,真空,显微镜

应用领域:

  • MEMS器件制造:用于制造压力传感器、惯性传感器、光学MEMS等需要硅-玻璃键合或硅-硅键合形成密闭腔体的复杂三维结构。

  • 先进封装研发:用于芯片级封装(CSP)、三维集成(3D-IC)、异质集成中的芯片对准与临时/长期键合工艺开发。

  • 半导体研发与实验室:为大学、研究所的微纳加工平台提供关键的后道工艺能力,支持新材料、新结构、新键合机理的探索。

  • 光电子与微流控集成:用于对准并键合光子芯片、激光器、微流控通道等对位置精度要求极高的器件。

这款芯片到芯片键合机以其完整的六轴对准能力、集成的温控与高压键合模块,以及为研发灵活性所做的设计,准确定位于MEMS与先进封装领域的研究与试制阶段。它使研究人员能够在一个平台

上完成从精密对准

到多种键合工艺的全流程实验,极大地加速了新型微纳器件从设计到原型验证的进程,是推动微系统技术创新不可或缺的基石工具。


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这款芯片到芯片键合机是一款专为微机电系统(MEMS)、先进封装及半导体研发领域设计的精密设备。它实现了三维结构或晶圆级封装中两个单芯片在微米级的精确对准与键合。设备专为研究机构定制化需求而设计,通过集成六轴对准、高温加热与高压电源,支持从手动对准到执行阳极键合、共晶键合及各种胶合工艺的全流程,是构建复杂三维微系统与进行异质集成的关键工具。
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在MEMS制造中,构建三维结构或封装通常需要两个单芯片的精确对准和键合。使用芯片到芯片键合器(CCB),可以手动对齐两个芯片。然后可以使芯片接触,以进行阳极键合或各种胶合过程。单芯片对准级包括

三个线性轴和三个旋转轴,为大多数对准应用提供了足够的自由度。下芯片夹在基板上,上芯片由针固定。两个真空保持器都可以单独调节和切换。为了执行阳极键合过程,提供了加热板和高压源。在控制器单元

上调节键合电压,该控制器单元监测电压和键合电流。加热板的温度也在控制器单元上进行调节。在MEMS制造中,

构建三维结构或封装通常需要两个单芯片的精确对准和键合。使用芯片到芯片键合机,可以手动对齐两个芯片。然后可以使芯片接触,以进行阳极键合或各种胶合过程。单芯片对准级包括三个线性轴和三个旋转轴,为大多数对准应用提供了足够的自由度。下芯片夹在基板上,上芯片由针固定。两个真空保持器都可以单独调节和切换。为了执行阳极键合过程,提供了加热板和高压源。在控制器单元上调节键合电压,该控制器单元监测电压和键合电流。加热板的温

度也在控制器单元

上进行调节。该设备专为研究机构设计,可适应您的特殊应用。

技术指标:

芯片尺寸:25 x 25毫米----3 x 3毫米

芯片夹紧机构:真空

加热卡盘

温度:520°C

加热板尺寸:40 x 40毫米

真空夹紧孔:Ø1.5 mm

加热功率:200 W

温度控制器:Jumo

温度传感器:PT100

针夹持上切屑

真空孔:Ø1.6mm

高压电源

电压:可调200至1500 V DC

功率:1.5W

显示器:电压和电流模拟

透明卡盘(可选)

尺寸:40 x 40毫米

真空夹紧孔:Ø1.5 mm

可调节范围

X和Y范围:对于加热板,25mm,刻度步长10μm,->灵敏度2μm

Z范围:真空针,25mm,刻度步长10μm,->灵敏度2μm

旋转:360°,灵敏度0.01°

倾斜度:±4°,灵敏度0.005°

安装要求:电源230V AC,真空,显微镜

应用领域:

  • MEMS器件制造:用于制造压力传感器、惯性传感器、光学MEMS等需要硅-玻璃键合或硅-硅键合形成密闭腔体的复杂三维结构。

  • 先进封装研发:用于芯片级封装(CSP)、三维集成(3D-IC)、异质集成中的芯片对准与临时/长期键合工艺开发。

  • 半导体研发与实验室:为大学、研究所的微纳加工平台提供关键的后道工艺能力,支持新材料、新结构、新键合机理的探索。

  • 光电子与微流控集成:用于对准并键合光子芯片、激光器、微流控通道等对位置精度要求极高的器件。

这款芯片到芯片键合机以其完整的六轴对准能力、集成的温控与高压键合模块,以及为研发灵活性所做的设计,准确定位于MEMS与先进封装领域的研究与试制阶段。它使研究人员能够在一个平台

上完成从精密对准

到多种键合工艺的全流程实验,极大地加速了新型微纳器件从设计到原型验证的进程,是推动微系统技术创新不可或缺的基石工具。


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