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在MEMS制造中,构建三维结构或封装通常需要两个单芯片的精确对准和键合。使用芯片到芯片键合器(CCB),可以手动对齐两个芯片。然后可以使芯片接触,以进行阳极键合或各种胶合过程。单芯片对准级包括
三个线性轴和三个旋转轴,为大多数对准应用提供了足够的自由度。下芯片夹在基板上,上芯片由针固定。两个真空保持器都可以单独调节和切换。为了执行阳极键合过程,提供了加热板和高压源。在控制器单元
上调节键合电压,该控制器单元监测电压和键合电流。加热板的温度也在控制器单元上进行调节。在MEMS制造中,
构建三维结构或封装通常需要两个单芯片的精确对准和键合。使用芯片到芯片键合机,可以手动对齐两个芯片。然后可以使芯片接触,以进行阳极键合或各种胶合过程。单芯片对准级包括三个线性轴和三个旋转轴,为大多数对准应用提供了足够的自由度。下芯片夹在基板上,上芯片由针固定。两个真空保持器都可以单独调节和切换。为了执行阳极键合过程,提供了加热板和高压源。在控制器单元上调节键合电压,该控制器单元监测电压和键合电流。加热板的温
度也在控制器单元
上进行调节。该设备专为研究机构设计,可适应您的特殊应用。
技术指标:
芯片尺寸:25 x 25毫米----3 x 3毫米
芯片夹紧机构:真空
加热卡盘
温度:520°C
加热板尺寸:40 x 40毫米
真空夹紧孔:Ø1.5 mm
加热功率:200 W
温度控制器:Jumo
温度传感器:PT100
针夹持上切屑
真空孔:Ø1.6mm
高压电源
电压:可调200至1500 V DC
功率:1.5W
显示器:电压和电流模拟
透明卡盘(可选)
尺寸:40 x 40毫米
真空夹紧孔:Ø1.5 mm
可调节范围
X和Y范围:对于加热板,25mm,刻度步长10μm,->灵敏度2μm
Z范围:真空针,25mm,刻度步长10μm,->灵敏度2μm
旋转:360°,灵敏度0.01°
倾斜度:±4°,灵敏度0.005°
安装要求:电源230V AC,真空,显微镜
应用领域:
MEMS器件制造:用于制造压力传感器、惯性传感器、光学MEMS等需要硅-玻璃键合或硅-硅键合形成密闭腔体的复杂三维结构。
先进封装研发:用于芯片级封装(CSP)、三维集成(3D-IC)、异质集成中的芯片对准与临时/长期键合工艺开发。
半导体研发与实验室:为大学、研究所的微纳加工平台提供关键的后道工艺能力,支持新材料、新结构、新键合机理的探索。
光电子与微流控集成:用于对准并键合光子芯片、激光器、微流控通道等对位置精度要求极高的器件。
这款芯片到芯片键合机以其完整的六轴对准能力、集成的温控与高压键合模块,以及为研发灵活性所做的设计,准确定位于MEMS与先进封装领域的研究与试制阶段。它使研究人员能够在一个平台
上完成从精密对准
到多种键合工艺的全流程实验,极大地加速了新型微纳器件从设计到原型验证的进程,是推动微系统技术创新不可或缺的基石工具。
在MEMS制造中,构建三维结构或封装通常需要两个单芯片的精确对准和键合。使用芯片到芯片键合器(CCB),可以手动对齐两个芯片。然后可以使芯片接触,以进行阳极键合或各种胶合过程。单芯片对准级包括
三个线性轴和三个旋转轴,为大多数对准应用提供了足够的自由度。下芯片夹在基板上,上芯片由针固定。两个真空保持器都可以单独调节和切换。为了执行阳极键合过程,提供了加热板和高压源。在控制器单元
上调节键合电压,该控制器单元监测电压和键合电流。加热板的温度也在控制器单元上进行调节。在MEMS制造中,
构建三维结构或封装通常需要两个单芯片的精确对准和键合。使用芯片到芯片键合机,可以手动对齐两个芯片。然后可以使芯片接触,以进行阳极键合或各种胶合过程。单芯片对准级包括三个线性轴和三个旋转轴,为大多数对准应用提供了足够的自由度。下芯片夹在基板上,上芯片由针固定。两个真空保持器都可以单独调节和切换。为了执行阳极键合过程,提供了加热板和高压源。在控制器单元上调节键合电压,该控制器单元监测电压和键合电流。加热板的温
度也在控制器单元
上进行调节。该设备专为研究机构设计,可适应您的特殊应用。
技术指标:
芯片尺寸:25 x 25毫米----3 x 3毫米
芯片夹紧机构:真空
加热卡盘
温度:520°C
加热板尺寸:40 x 40毫米
真空夹紧孔:Ø1.5 mm
加热功率:200 W
温度控制器:Jumo
温度传感器:PT100
针夹持上切屑
真空孔:Ø1.6mm
高压电源
电压:可调200至1500 V DC
功率:1.5W
显示器:电压和电流模拟
透明卡盘(可选)
尺寸:40 x 40毫米
真空夹紧孔:Ø1.5 mm
可调节范围
X和Y范围:对于加热板,25mm,刻度步长10μm,->灵敏度2μm
Z范围:真空针,25mm,刻度步长10μm,->灵敏度2μm
旋转:360°,灵敏度0.01°
倾斜度:±4°,灵敏度0.005°
安装要求:电源230V AC,真空,显微镜
应用领域:
MEMS器件制造:用于制造压力传感器、惯性传感器、光学MEMS等需要硅-玻璃键合或硅-硅键合形成密闭腔体的复杂三维结构。
先进封装研发:用于芯片级封装(CSP)、三维集成(3D-IC)、异质集成中的芯片对准与临时/长期键合工艺开发。
半导体研发与实验室:为大学、研究所的微纳加工平台提供关键的后道工艺能力,支持新材料、新结构、新键合机理的探索。
光电子与微流控集成:用于对准并键合光子芯片、激光器、微流控通道等对位置精度要求极高的器件。
这款芯片到芯片键合机以其完整的六轴对准能力、集成的温控与高压键合模块,以及为研发灵活性所做的设计,准确定位于MEMS与先进封装领域的研究与试制阶段。它使研究人员能够在一个平台
上完成从精密对准
到多种键合工艺的全流程实验,极大地加速了新型微纳器件从设计到原型验证的进程,是推动微系统技术创新不可或缺的基石工具。
